Page 79 - Spin Transport and Spintronics
P. 79

3.1 แบบจำลองบริเวณรอยต่อในโครงสร้างวัสดุ                                          80



























                รูปที่ 3.1 โครงสร้างวัสดุ CFAS/Ge ที่มีรอยต่อแบบแพร่กระจายของอะตอมระหว่างชั้นวัสดุ [51]



              เหล็กและกระบวนการทำงานของอุปกรณ์สปินทรอนิกส์


                    แบบจำลองโดยส่วนใหญ่ที่ใช้ในการอธิบายพฤติกรรมการส่งผ่านสปินและปรากฏการณ์ต่างๆ
              ภายในโครงสร้างวัสดุแม่เหล็กจะอาศัยการจำลองโครงสร้างบริเวณรอยต่อแบบอุดมคติซึ่งไม่มีการแพร่

              ของอะตอมระหว่างชั้นฟิล์ม ทำให้แบบจำลองดังกล่าวขาดความเสมือนจริงและไม่สามารถอธิบาย

              ปรากฏการณ์ทางกายภาพต่างๆ ที่เกิดขึ้นภายในบริเวณรอยต่อระหว่างชั้นฟิล์มบางได้อย่างครอบคลุม
              ดังนั้นเพื่อให้การศึกษามีความเสมือนจริงและให้ผลการคำนวณที่ถูกต้องมากขึ้น จำเป็นต้องอาศัยแบบ

              จำลองของบริเวณรอยต่อที่พิจารณาการผสมกันของอะตอมระหว่างชั้นฟิล์มซึ่งขึ้นกับความร้อนและ

              เวลาที่ใช้ในกระบวนการปลูกผลึกและสามารถนำไปสู่การอธิบายพฤติกรรมการส่งผ่านสปินปรากฏการณ์

              ค่าความต้านทานทางแม่เหล็กและปรากฏการณ์ต่างๆ ที่เกิดขึ้นภายในโครงสร้างวัสดุแม่เหล็ก

                    โครงสร้างของบริเวณรอยต่อระหว่างวัสดุต่างชนิดกันสามารถจำลองได้โดยอาศัยลักษณะการ

              แพร่กระจายความเข้มข้นของไอออน โดยการประยุกต์ใช้กฎของฟิค (Fick’s law) ซึ่งประกอบด้วย

              คุณสมบัติ 2 ข้อดังรายละเอียดต่อไปนี้

              Fick’s first law: การแพร่ของฟลักซ์ (J) ที่ตำแหน่งใดๆ จะมีค่าแปรผันตรงกับอัตราการเปลี่ยนแปลง

              ความเข้มข้น เพื่อความง่ายในการวิเคราะห์จะกำหนดให้มีการแพร่ไปในทิศทางเดียวตามแนวแกน x จะ

              ได้การแพร่ของฟลักซ์ดังแสดงในสมการต่อไปนี้

                                                            ∂C                                (3.1)
                                                 J = −D ion
                                                            ∂x
              Fick’s second law: ความเข้มข้นของอะตอม (C) จะมีค่าขึ้นอยู่กับเวลาและตำแหน่ง โดยสามารถ

              แสดงความสัมพันธ์ได้ในรูปของอนุพันธ์อันดับสองของอัตราการเปลี่ยนแปลงความเข้มข้นและค่าคงที่
   74   75   76   77   78   79   80   81   82   83   84